Bognár György B E R
Belépés címtáras azonosítással vissza a tantárgylistához nyomtatható verzió Mikroelektronikai rendszerek tervezése laboratórium A tantárgy angol neve: Design of Microelectronics Systems Laboratory Adatlap utolsó módosítása: 2019. május 6. Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Villamosmérnöki és Informatikai Kar Villamosmérnöki mesterképzési szak Mikroelektronika és elektronikai technológia főspecializáció Tantárgykód Szemeszter Követelmények Kredit Tantárgyfélév VIEEMA03 2 0/0/3/f 4 3. A tantárgyfelelős személy és tanszék Dr. Szabó Péter Gábor, 4. A tantárgy előadója Név: Beosztás: Tanszék, Int. : Dr. Bognár György egyetemi docens EET Dr. Bognár György Bme. Szabó Péter Gábor 5. A tantárgy az alábbi témakörök ismeretére épít Elektronika, Mikroelektronika, C/C++ készségszintű ismerete a nagybonyolultságú digitális áramkörök tervezése irány választóinak. Tranzisztoros erősítő alapkapcsolások ismerete (differenciál erősítő, műveleti erősítő), oszcillátor alapkapcsolások (gyűrűs oszcillátor) ismerete a Mikroelektronikai rendszerek tervezése irányt választóknak.
Dr. Bognár György | Tehetseg.Hu
A finanszírozás lehetőséget teremt arra, hogy a pályázó a következő öt évben olyan világszínvonalú eredményeket ígérő kutatási projektet valósítson meg Magyarországon, amely hozzásegíti az Európai Kutatási Tanács (ERC) által meghirdetésre kerülő kutatás-támogatási programokban való sikeres részvételhez. A nyertesek között szerepel Stépán Gábor (GPK, Műszaki Mechanikai Tanszék) a "Numerikus- és környezetszimuláció marógépek rezgéscsökkentésére szerszámél-geometria és mechanikai érintkezések optimalizálásával" elnevezésű kezdeményezésével. A 2020. évi Tématerületi Kiválósági Program részeként 27 hazai egyetem és állami kutatóintézet 92 tématerületi kutatását csaknem 43. 9 milliárd forint értékben támogatta a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Alap. Bognár györgy b e r. A Műegyetem 2. 600. 000. 000 forint összegben részesült támogatásként. A program a felsőoktatási intézmények és állami kutatóhelyek kiválóságára alapoz a jelentős tudományos vagy műszaki újdonságtartalommal rendelkező, üzletileg hasznosítható terméket, technológiát vagy szolgáltatást kifejlesztő projektekben.
Elektronikai Technológia Tanszék Honlapja
Törekszik a kutatás feltételrendszer tökéletesítésére, a kutatói utánpótlás fellendítésére, a nemzetközi kutatói közösség erősítésére, a kutatás-fejlesztési és innovációs fókusz erősítésére, a társadalmi, gazdasági és környezeti hasznosításra vagy ennek ösztönzésére. Elektronikai Technológia Tanszék honlapja. Az Austrian Science Fund (FWF) és az Országos Tudományos Kutatási Alapprogramok (OTKA) között 2012. április 10-én megkötött, majd az OTKA jogutódjaként a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Hivatal részvételével továbbvitt Lead Agency megállapodás keretében magyar és osztrák kutatócsoportok közös alapkutatási projektjének támogatására az idei évben a Magyar-osztrák és magyar-szlovén nemzetközi együttműködésen alapuló kutatási témapályázatok elnevezésű pályázati felhívás keretében lehetett támogatási igényt benyújtani. Idén két magyar-osztrák együttműködésen alapuló kutatási témapályázat volt sikeres, köztük Rétvári Gábor (VIK, Távközlési és Médiainformatikai Tanszék) "Felhő alapú hálózatok megbízhatósága" című 4 éves projektje.
Bognár György Bme
8. A tantárgy részletes tematikája 1. hét Áttekintés a mikroelektronikáról, mint az egyik legnagyobb fejlődést mutató iparágról. A Moore törvény, international technology roadmap, a fejlődés korlátai. Mikroelektronika és mikroelektronikai technológia alapfogalmai. A mikroelektronikai gyártástechnológia fő vonásai: rétegleválasztás / növesztés, adalékolás, mintázat kialakítása (fotolitográfia, marás). A layout és a maszk fogalma. A tiszta tér fogalma. Dr. Bognár György | tehetseg.hu. Milyen egy IC gyár? 2. hét More than Moore integráció (SoC, SiP, Stacked Die, SoP, CSP, stb. ). Csíkszélesség, lapkaméret, egy chipre integrált tranzisztorok száma, órajel, disszipáció és integrált magok/funkciók változása azt elmúlt években. Disszipációs korlát, alkalmas hűtőeszközök. 3. hét Egykristály szilícium előállítás, alapvető technológiai lépések és jellemzőik (epitaxiális rétegnövesztés, oxidnövesztés, vékonyréteg leválasztás technológiája, adalékolás diffúzióval és ionimplantációval), modern fotolitográfia (immerziós, többszörös leképzés, fázisérzékeny, elektronsugaras, Deep UV, EUV).
Prezentációjában az érdeklődők olyan kérdésekre kaphattak választ, hogy mit csinál az európai mérnökdiplomás, hogyan lehetnek a BME diákjai EELISA hallgatók, hogyan működnek majd az európai egyetemek közös képzései, mit és milyen oktatási módszertannal oktatnak majd az elkövetkező években. (A program indulásáról a egy korábbi cikkében beszámolt. HA-TZS Fotó: Víg Johanna